鹽霧試驗箱實(shí)驗水溶液要用氧化鈉和水開(kāi)展配制，金屬材料的鹽霧腐蝕屬電化學(xué)反應，鹽中殘渣的是多少對鹽霧測試結果有很大危害，如：NaI過(guò)多時(shí)，無(wú)形之中會(huì )提升金屬材料間的電勢差，或使金屬材料產(chǎn)生維護表層，進(jìn)而危害金屬材料腐蝕深度;Cu、Ni正離子具備加快腐蝕和影響實(shí)驗結果的功效，尤其是涂層、Cr涂層，與具體標準下個(gè)人所得結果的可比性差，使中性化鹽霧測試的可信性較差，因而務(wù)必嚴控Cu、Ni殘渣成分。

　　大眾和PSA的控制內容大致相當，只是雜質(zhì)的總質(zhì)量分數有所不同，二者之間的關(guān)系相當于分析純NaCl與優(yōu)級純NaCl的差異。

 

　　規范的內容與現行標準的GB1266-2006《化學(xué)試劑氯化鈉》大概相似，但GB1266-2006僅對碘化物有規定，對Cu、Ni則無(wú)規定。規范對鹽霧試驗箱自來(lái)水的規定極為嚴苛，其自來(lái)水規范等同于GB/T6682-2008《分析實(shí)驗室用水規格和試驗方法》規范中的二級水。對NaCl中殘渣成分的規定比較比較寬松、必須嚴格控制水里的導電率相關(guān)。這類(lèi)嚴苛的實(shí)驗自來(lái)水標準可能大增加，應用規范的鹽霧測試成本費。